我们都知道摩尔定律，对，就是那句著名的话。

【当价格不变时，集成电路上可容纳的元器件的数目，约每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。】

这条定律或者说这个现象已经持续了半个世纪了，不过仍应该被认为是观测或推测，而不是一个物理或自然法。

事实上摩尔定律也有上线或者说天花板，一般科学家认为目前这种半导体光刻芯片制造技术的天花板应该在2n左右，

因为单个原子核的直径大概在01n这个量级，间距做到十个原子就是极限了。最多也就做到1n，还得看实测的效果。一定的稳定性可靠性下，可能2n就到极限了。

当然了，也有科学家提出了1n概念，也就是说突破部分科学家认为的2n极限，从而达到这类硅半导体光刻芯片的顶端1n。

从3纳米开始，每提升一个量级，将会非常的困难，这比之前7纳米到5纳米，5纳米到3纳米还要困难。

所以芯片制造技术将会出现短时间的瓶颈期，直到新的技术和工艺出现，亦或者是出现新的材料。

比如目前科学家提出的用碳材料来替代硅材料，来用于芯片制造材料，其性能要比目前硅基芯片要有很大的提升。

此外，光子芯片，量子芯片，生物芯片技术也在迅速发展之中。比如量子芯片，目前已经有了初步雏形。而光子芯片呢，发展也是非常迅速的。尤其是有了吴浩他们这次所提供的复合透镜镜片技术的支持，相信光子芯片将会很快问世。

当然了，这些都是尖端处理器芯片。像普通应用芯片在很长一段时间内还是依赖于这种普通芯片。

这也是吴浩费这么大力气促成光刻机研发以及芯片制造全产业链建设项目成立的原因。

而这个停滞的时间窗口或者说瓶颈期，也正好有利于他们进行追赶。